Hoshine Silicon Industry Shihezi Fab (Q1202): Unterschied zwischen den Versionen
Zur Navigation springen
Zur Suche springen
Kim (Diskussion | Beiträge) (Aussage erstellt: gelegen in (P17): https://www.wikidata.org/entity/Q848680) |
Kim (Diskussion | Beiträge) (Aussage geändert: gelegen in (P17): http://www.wikidata.org/entity/Q848680) |
||
Eigenschaft / gelegen in | Eigenschaft / gelegen in | ||
Aktuelle Version vom 25. Juni 2024, 13:44 Uhr
Standort zur Materialherstellung von Hoshine Silicon Industry
Sprache | Bezeichnung | Beschreibung | Auch bekannt als |
---|---|---|---|
Deutsch |
Hoshine Silicon Industry Shihezi Fab
|
Standort zur Materialherstellung von Hoshine Silicon Industry
|